Ketepatan Pemesinan Komponen
Penapis Q tinggi memerlukan ketepatan yang sangat tinggi dalam pemesinan komponen. Malah sisihan kecil dalam saiz, bentuk atau kedudukan boleh menjejaskan prestasi penapis dan faktor Q dengan ketara. Sebagai contoh, dalam penapis rongga, dimensi dan kekasaran permukaan rongga secara langsung memberi kesan kepada faktor Q. Untuk mencapai faktor Q yang tinggi, komponen mesti dimesin dengan ketepatan tinggi, selalunya memerlukan teknologi pembuatan termaju seperti pemesinan CNC ketepatan atau pemotongan laser. Teknologi pembuatan aditif seperti peleburan laser terpilih juga digunakan untuk meningkatkan ketepatan dan kebolehulangan komponen.

Pemilihan Bahan dan Kawalan Kualiti
Pemilihan bahan untuk penapis Q tinggi adalah kritikal. Bahan dengan kehilangan rendah dan kestabilan tinggi diperlukan untuk meminimumkan kehilangan tenaga dan memastikan prestasi yang stabil. Bahan biasa termasuk logam ketulenan tinggi (cth, tembaga, aluminium) dan dielektrik kehilangan rendah (cth, seramik alumina). Walau bagaimanapun, bahan ini selalunya mahal dan mencabar untuk diproses. Selain itu, kawalan kualiti yang ketat diperlukan semasa pemilihan dan pemprosesan bahan untuk memastikan konsistensi sifat bahan. Sebarang kekotoran atau kecacatan dalam bahan boleh menyebabkan kehilangan tenaga dan pengurangan faktor Q.

Ketepatan Pemasangan dan Penalaan
Proses pemasangan untukpenapis Q tinggimestilah sangat tepat. Komponen perlu diletakkan dan dipasang dengan tepat untuk mengelakkan salah jajaran atau jurang, yang boleh merendahkan prestasi penapis. Untuk penapis Q tinggi boleh tala, penyepaduan mekanisme penalaan dengan rongga penapis menimbulkan cabaran tambahan. Sebagai contoh, dalam penapis resonator dielektrik dengan mekanisme penalaan MEMS, saiz penggerak MEMS jauh lebih kecil daripada resonator. Jika resonator dan penggerak MEMS direka secara berasingan, proses pemasangan menjadi rumit dan mahal, dan sedikit salah jajaran boleh menjejaskan prestasi penalaan penapis.

Mencapai Lebar Jalur Malar dan Kesesuaian
Mereka bentuk penapis boleh tala Q tinggi dengan lebar jalur tetap adalah mencabar. Untuk mengekalkan lebar jalur yang berterusan semasa penalaan, Qe yang dimuatkan luaran mesti berbeza secara langsung dengan frekuensi tengah, manakala gandingan antara resonator mesti berbeza secara songsang dengan frekuensi tengah. Kebanyakan penapis boleh tala yang dilaporkan dalam literatur mempamerkan kemerosotan prestasi dan variasi lebar jalur. Teknik seperti gandingan elektrik dan magnet yang seimbang digunakan untuk mereka bentuk penapis boleh tala lebar jalur tetap, tetapi untuk mencapainya dalam amalan masih sukar. Sebagai contoh, penapis rongga mod dwi TE113 yang boleh dilaras dilaporkan mencapai faktor Q tinggi sebanyak 3000 berbanding julat penalaannya, tetapi variasi lebar jalurnya masih mencapai ±3.1% dalam julat penalaan yang kecil.

Kecacatan Pembuatan dan Pengeluaran Berskala Besar
Ketidaksempurnaan fabrikasi seperti bentuk, saiz dan sisihan kedudukan boleh memperkenalkan momentum tambahan kepada mod, yang membawa kepada gandingan mod pada titik berbeza dalam ruang k dan penciptaan saluran sinaran tambahan, dengan itu mengurangkan faktor Q. Untuk peranti nanofotonik ruang bebas, kawasan fabrikasi yang lebih besar dan lebih banyak saluran lossy yang dikaitkan dengan tatasusunan struktur nano menjadikannya sukar untuk mencapai faktor Q tinggi. Walaupun pencapaian percubaan telah menunjukkan faktor Q setinggi 10⁹ dalam mikroresonator pada cip, fabrikasi penapis Q tinggi berskala besar selalunya mahal dan memakan masa. Teknik seperti fotolitografi skala kelabu digunakan untuk membuat tatasusunan penapis skala wafer, tetapi mencapai faktor Q tinggi dalam pengeluaran besar-besaran masih menjadi cabaran

Tukar Ganti Antara Prestasi dan Kos
Penapis Q tinggi biasanya memerlukan reka bentuk yang kompleks dan proses pembuatan berketepatan tinggi untuk mencapai prestasi unggul, yang meningkatkan kos pengeluaran dengan ketara. Dalam aplikasi praktikal, terdapat keperluan untuk mengimbangi prestasi dan kos. Sebagai contoh, teknologi pemesinan mikro silikon membolehkan fabrikasi kelompok kos rendah bagi resonator dan penapis boleh tala pada jalur frekuensi yang lebih rendah. Walau bagaimanapun, mencapai faktor-Q tinggi dalam jalur frekuensi yang lebih tinggi masih belum diterokai. Menggabungkan teknologi penalaan RF MEMS silikon dengan teknik pengacuan suntikan yang kos efektif menawarkan penyelesaian yang berpotensi untuk pembuatan penapis Q tinggi yang boleh skala dan kos rendah sambil mengekalkan prestasi tinggi.